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【国际论文】缺氧 γ-Ga₂O₃ 薄膜中缺陷诱导磁性的理论方法
日期:2024-02-08阅读:213
近期,由巴西巴拉那联邦大学等机构组成的研究团队在学术期刊《Materials Chemistry and Physics》发布的一篇名为Theoretical approach to defect-induced magnetism in oxygen-deficient γ-Ga2O3 films(缺氧γ-Ga2O3 薄膜中缺陷诱导磁性的理论方法)的文章。
摘要
氧化镓(Ga2O3)是一种新兴材料,具有多种已知的多态,对于应用具有许多有趣的性质。本研究在蓝宝石衬底上生长的氧缺陷薄膜Ga2O3-x(0.42 < x < 0.60)中观察到的非常规铁磁性在理论上进行了研究和讨论。通过基于密度泛函理论的第一性原理计算,针对具有不同构型的氧空位的标准γ-Ga2O3晶体结构进行了研究,结果表明磁矩的形成与实验磁化测量结果十分吻合。氧空位对的随机分布以及它们在包含四面体和八面体位点的尖晶石状立方结构中的重新排列与温度升高时的长程持续非共线磁序相一致,其温度可能超过 γ-Ga2O3 完全转化为 β-Ga2O3 时的温度。我们目前的结果还表明,从10K到室温观察到的磁不可逆现象可能由于四面体和八面体位置结构中的内在无序性决定,这允许氧空位以低激活能和迁移势垒的方式进行多种可能的迁移,正如以前发表的报道所指出的。
原文链接:https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2024.128877