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【国内论文】河北工程大学、西安稀有院、河北工职大、邢台学院、燕山大学:Co、N单掺杂及Co-N共掺杂对β-Ga₂O₃电子与光学性质影响的第一性原理研究

日期:2026-05-12阅读:32

        由河北工程大学、西安稀有金属材料研究院有限公司、河北工业职业技术大学、邢台学院、燕山大学的研究团队在学术期刊 Journal of Physics and Chemistry of Solids 发布了一篇名为 First-principle investigation of Co, N, and Co-N co-doping effects on electronic and optical properties of β-Ga₂O₃(Co、N单掺杂及Co-N共掺杂对β-Ga₂O₃电子与光学性质影响的第一性原理研究)的文章。

 

背   景

        β-Ga₂O₃ 是性能优异的超宽禁带半导体,但本征导电性不足限制了其器件应用。掺杂是调控其光电性能的有效手段。目前针对 Co 单掺杂及 Co-N 共掺杂对 β-Ga₂O₃ 光电性质影响的系统理论研究仍较为缺乏。本文采用第一性原理计算,研究 Co、N 单掺杂及 Co-N 共掺杂对其电子结构、能带与光学性质的影响,为实验优化材料性能提供理论依据。

 

主要内容

        Ga₂O₃ 是一种宽禁带半导体,具有五种不同物相,其中 β-Ga₂O₃ 是最稳定的相,相较于其他半导体材料具备诸多优异特性。为研究掺杂对其电子与光学性质的影响,且鉴于当前关于 Co 单掺杂及 Co-N 共掺杂对 β-Ga₂O₃ 光电性质影响的研究较为匮乏,本文采用第一性原理计算研究了 Co、N 单掺杂及 Co-N 共掺杂对 β-Ga₂O₃ 光电性质的作用,计算并分析了体系的几何结构、电子结构与光学性质。结果表明,Co 单掺杂与 Co-N 共掺杂模型均为热力学稳定结构;电子结构分析显示,相较于本征 β-Ga₂O₃,所有掺杂体系的禁带宽度均减小,其中 Co-N 共掺杂协同结合了 Co 与 N 单掺杂的优势,实现了比单独 Co 或 N 掺杂更显著的禁带宽度窄化;光学性质计算表明,Co-N 共掺杂可有效促使光吸收系数发生红移,表现出更宽的光吸收范围与更强的吸收强度。该研究成果可为实验研究者设计光学性能提升的 β-Ga₂O₃ 材料及开发高效光催化剂提供参考。

 

创新点

        ●首次系统开展 Co、N 单掺杂及 Co‑N 共掺杂 β‑Ga₂O₃ 的第一性原理对比研究,构建 12 种结构模型并完成稳定性与光电性质分析。

        ●证实 Co‑N 共掺杂可协同窄化带隙、引入杂质能级与中间能带,兼具 p 型掺杂特征与自旋极化特性。

        ●揭示 Co‑N 共掺杂显著拓宽光吸收范围并增强吸收强度,实现明显红移,为光催化与光伏应用提供优化路径。

        ●明确 Co 更易取代 Ga₂ 位、N 更易取代 O₃ 位,共掺杂可降低形成能、提升结构热力学稳定性。

 

结   论

        本文采用第一性原理计算方法,研究了 Co、N 单掺杂及 Co-N 共掺杂对 β-Ga₂O₃ 半导体材料光电性质的影响,研究了包括本征 β-Ga₂O₃ 及掺杂体系在内的 12 种不同模型。结果表明:

        (1)大部分掺杂构型均表现出热力学稳定性,Co 更易取代 Ga₂ 位;在 Co-N 共掺杂中,Co 取代 Ga₂ 位相较于取代 Ga₁ 位具有更优的热力学稳定性。

        (2)所有掺杂体系的禁带宽度均减小;N 单掺杂使价带顶与费米能级相交,表明 N 单掺杂使 β-Ga₂O₃ 呈现金属性且属于 p 型掺杂;Co 单掺杂引入中间能带并诱导能带自旋分裂,意味着 Co 单掺杂 β-Ga₂O₃ 在太阳能电池与自旋电子器件中具备应用潜力;Co-N 共掺杂结合了 N 单掺杂在费米能级处形成杂质能级、Co 单掺杂引入中间能带的优势,进一步减小了 β-Ga₂O₃ 的禁带宽度。

        (3)光学性能分析结果表明,Co-N 共掺杂可有效促使光谱红移,拥有更宽的光吸收范围与更强的吸收强度。

 

项目支持

        本工作得到河北省高等学校科学研究项目(No. QN2023007)、河北省自然科学基金(E2023402114)的资助。

图 1 掺杂体系的结构模型:(a) 本征 β-Ga₂O₃;(b) Ga 位 Co 掺杂的 1×2×2 超晶胞 β-Ga₂O₃;(c) O 位 N 掺杂的 1×2×2 超晶胞 β-Ga₂O₃;(d) 含 CoGa1-NO1、CoGa1-NO2、CoGa1-NO3 的 1×2×2 超晶胞 β-Ga₂O₃;(e) 含 CoGa2-NO1、CoGa2-NO2、CoGa2-NO3 的 1×2×2 超晶胞 β-Ga₂O₃

图 2 结构优化后的部分键长:(a) 本征 β-Ga₂O₃;(b) O2 位 N 掺杂的 β-Ga₂O₃;(c) Ga2 位 Co 掺杂的 β-Ga₂O₃;(d) CoGa2-NO2 共掺杂的 β-Ga₂O₃

图 3 电子局域函数 (ELF):(a) 本征 β-Ga₂O₃;(b) O2 位 N 掺杂的 β-Ga₂O₃;(c) Ga2 位 Co 掺杂的 β-Ga₂O₃;(d) CoGa2-NO2 共掺杂的 β-Ga₂O₃

图 4 电子密度分布:(a) 本征 β-Ga₂O₃;(b) O2 位 N 掺杂的 β-Ga₂O₃;(c) Ga2 位 Co 掺杂的 β-Ga₂O₃;(d) CoGa2-NO2 共掺杂的 β-Ga₂O₃

图 5 12 种模型的计算能带结构:(a) 本征 β-Ga₂O₃;(b) O1 位 N 掺杂 β-Ga₂O₃;(c) O2 位 N 掺杂 β-Ga₂O₃;(d) O3 位 N 掺杂 β-Ga₂O₃;(e) Ga1 位 Co 掺杂 β-Ga₂O₃;(f) Ga2 位 Co 掺杂 β-Ga₂O₃;(g) CoGa1-NO1;(h) CoGa1-NO2;(i) CoGa1-NO3;(j) CoGa2-NO1;(k) CoGa2-NO2;(l) CoGa2-NO3

图 6 12 种模型的态密度 (DOS):(a) 本征 β-Ga₂O₃;(b) O1 位 N 掺杂 β-Ga₂O₃;(c) O2 位 N 掺杂 β-Ga₂O₃;(d) O3 位 N 掺杂 β-Ga₂O₃;(e) Ga1 位 Co 掺杂 β-Ga₂O₃;(f) Ga2 位 Co 掺杂 β-Ga₂O₃;(g) CoGa1-NO1;(h) CoGa1-NO2;(i) CoGa1-NO3;(j) CoGa2-NO1;(k) CoGa2-NO2;(l) CoGa2-NO3

图 7 (a) 单掺杂体系的介电函数虚部曲线;(b) 共掺杂体系的介电函数虚部曲线

图 8 (a) 单掺杂体系的光吸收系数曲线;(b) 共掺杂体系的光吸收系数曲线

DOI:

doi.org/10.1016/j.jpcs.2026.113784