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【标准动态】全国半导体材料标准制修订工作会议顺利召开,氧化镓国标布局持续推进

日期:2026-05-11阅读:74

        4月27日至30日,全国半导体材料标准项目论证会暨标准制修订工作会议在杭州富阳顺利召开。本次会议由全国半导体材料标准化分技术委员会、有色金属技术经济研究院有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所联合主办,杭州光学精密机械研究所与孵育企业杭州富加镓业科技有限公司共同协办。

        会议由全国半导体设备和材料标委会材料分技术委员会主任贺东江、杭州富春湾新城管理委员会党委副书记汪洋、杭州富加镓业科技有限公司董事长齐红基、全国半导体设备和材料标委会材料分技术委员会秘书长李素青等人共同参加,并汇聚了全国半导体材料领域的专家学者、企业代表及科研院所力量,围绕半导体材料标准体系建设展开深入研讨。值得关注的是在本次涉及的39项标准申请项目中,氧化镓相关项目达到5项。此外,另有2项已进入预审与讨论阶段。覆盖单晶、外延、缺陷检测、膜厚测量及杂质分析等多个关键环节,显示出国内氧化镓标准体系建设正在明显提速——对于仍处于产业化早期阶段的氧化镓而言,标准体系建设的推进,往往意味着产业正从实验室研发逐步走向工程化与规模化阶段。

        从项目方向来看,本轮氧化镓标准布局已经不再局限于材料定义本身,而是逐步向产业链关键环节延伸。无论是单晶与外延材料标准,还是位错密度、缺陷检测、膜厚测量以及痕量杂质分析,本质上都对应着氧化镓行业迈向产业化与规模化过程中所需要建立的质量评价体系与工艺规范。

        对于仍处于产业化早期阶段的氧化镓行业而言,国家标准体系的推进具有重要意义。标准不仅关系到材料参数、检测方法与质量评价体系的统一,也直接影响产业链协同、器件可靠性验证以及后续应用导入效率。随着氧化镓在功率器件、深紫外探测、高温电子等方向的应用持续推进,国家标准的逐步完善,也意味着氧化镓行业正从实验室研发阶段进一步迈向产业化阶段。

        此次会议中,多项涉及“无损检测”“位错密度测试”“膜厚测量”的项目集中出现,也反映出行业关注点正在发生变化。氧化镓产业的发展重点,正在从“能否实现材料与器件制备”,逐渐转向“如何建立成熟、稳定、可复制的产业体系”。

        与此同时,联盟也持续关注并参与氧化镓相关标准化工作的推进,围绕产业交流、技术协同、资源整合及标准体系建设等方向,推动行业上下游之间的协同发展。随着越来越多企业、科研机构与产业力量进入氧化镓赛道,标准化体系的重要性也将进一步凸显,并有望成为推动氧化镓产业化进程的重要支撑。