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【国际论文】基于E-Mode β-Ga₂O₃ 中间层的垂直沟槽功率MOSFET在高温下的快速开关性能模拟

日期:2025-08-20阅读:20

        由美国爱达荷大学的研究团队在学术期刊 IEEE Access 发布了一篇名为 Simulation of E-Mode β-Ga2O3 Interlayer-Based Vertical Trench Power MOSFET With Fast-Switching Performance at High Temperatures(基于 E-Mode β-Ga2O3 中间层的垂直沟槽功率 MOSFET 在高温下的快速开关性能模拟)的文章。

 

背   景

        基于碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等宽禁带(WBG)半导体的电力电子市场正因各行业应用需求的激增而显著增长,这些行业包括可再生能源、电机控制、混合动力或电动汽车以及航空航天等。WBG 半导体的主要缺点是其制造成本相对硅(Si)较高。一种新兴的替代 WBG 半导体材料是β相氧化镓(β-Ga2O3)。作为超宽禁带(UWBG)半导体材料的候选者,β-Ga2O3 具有约 4.8 eV 的大禁带宽度,大尺寸晶体的成本低于 SiC 和 GaN,Baliga 性能指数大于 SiC 和 GaN,且本征载流子浓度低,具有高温稳定性。过去十年间,β-Ga2O3 的优越材料特性在高功率和高温应用领域吸引了广泛的研究关注。目前利用 β-Ga2O3 开发的主要垂直晶体管包括鳍式场效应晶体管(FinFETs)、电流孔径垂直 MOSFET(CAVETs)和 U 形 MOSFET(UMOSFETs)。

 

主要内容

        本文在 Sentaurus TCAD 中设计并模拟了一种基于氮掺杂电流阻挡层(CBL)的垂直沟槽功率 β-Ga2O3 MOSFET。所提出的 MOSFET 实现了增强模式(E 模式)操作,并且性能优于已报道的具有 CBL 的 E 模式 β-Ga2O3 晶体管。直流特性显示其开/关电流比高达 108,高于已报道的 β-Ga2O3 U 形 MOSFET;其导通电流密度为 94 A/cm2,比已报道的 β-Ga2O3 电流孔径垂直 MOSFET 更高;其特定导通电阻为 26.5 mΩ·cm2,低于已报道的 β-Ga2O3 电流孔垂直 MOSFET;击穿电压为 483 V,高于已报道的 β-Ga2O3 电流孔垂直 MOSFET。热特性研究表明,该器件在 E 模式操作下可工作至 500℃,此时导通电流密度为 35 A/cm2,导通电阻为 104 mΩ·cm2。还对其动态特性进行了研究,在室温下实现了出色的开关性能,导通时间为 29 ns,关断时间为 48 ns。在 500℃ 时,由于电子迁移率降低,导通时间略微增加至 38 ns,但由于关断状态下栅极电荷的放电时间更短,关断时间仍保持在 40 ns 左右。所提出的 MOSFET 在升压转换器应用中进行了测试,在 40% 占空比下获得了 89% 的效率和 1.42 的电压转换比。本研究表明,所提出的 β-Ga2O3 MOSFET 在电力电子应用中作为高速开关具有巨大潜力。

图1. 基于夹层的垂直沟槽栅极 β-Ga2O3 MOSFET 的示意图截面图。

图 2. 在 NA,0 = 7.5 × 1016 cm−3 与 ND,0 = 2.4 × 1017 cm−3 的条件下,修正后的 Arora 模型与实测数据的 β-Ga2O3 电子迁移率对比。

DOI:

doi.org/10.1109/ACCESS.2025.3589533