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【其他论文】电子辐照 beta-Ga₂O₃ 中缺陷的光致发光研究

日期:2024-12-11阅读:237

        近期,由太原科技大学的研究团队在学术期刊 Applied Physics Letters 发布了一篇名为Study of photoluminescence from defects in electron-irradiated beta-Ga2O3(电子辐照 beta-Ga2O3 中缺陷的光致发光研究)的文章。

摘要

        关于 β-Ga2O缺陷的研究是其在高端领域得以应用的首要步骤。然而,对于 660-850 nm(近红外)光致发光(PL)波段究竟源于哪种缺陷结构,仍存在争议。通过采用低温 PL 光谱对 660-850 nm 波段的 PL 特性进行了研究。此外,借助电子辐照在(100)面 β-Ga2O3 晶体中人为引入本征缺陷,致使 660-850 nm 波段显著增强。结合去卷积拟合分析与晶格弛豫理论表明,该波段由零声子以及单个或多个声子跃迁共同导致。依据晶体结构和形成能模拟,认为 660-850 nm 的 PL 波段与晶格中三个等效位置上的氧空位有关。

 

原文链接:

https://doi.org/10.1063/5.0215216