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【器件论文】本征点缺陷对 β-Ga₂O₃(100)/NiO(100) 异质结界面光电性质的影响
日期:2026-05-12阅读:43
由西安电子科技大学的研究团队在学术期刊《原子与分子物理学报》发布了一篇名为《本征点缺陷对β-Ga2O3(100)/NiO(100)异质结界面光电性质的影响》的文章。
摘要
采用第一性原理计算,系统地研究了氧空位(VO)与镍空位(Vɴᵢ)两种点缺陷对β-Ga2O3/NiO异质结界面光电特性的影响。Bader电荷分析表明,VO和VNi导致异质结界面处电荷转移量增加,但二者均在带隙中引入深能级缺陷,这些深能级缺陷作为载流子俘获中心,致使载流子局域化,显著抑制了其输运能力。光学性质进一步分析,点缺陷拓宽了异质结的光响应范围,使其吸收边延伸至可见光区域。异质结本身可有效拓宽β-Ga2O3的紫外吸收范围,而点缺陷虽将光响应扩展至可见光区,但这种扩展是以牺牲日盲紫外波段的选择性为代价的。
知网链接:
https://kns.cnki.net/kcms2/article/abstract?v=A2Z-m-A1gcnFIUSBargUZYOM0NBAm1FWibUML5BkY8QUkyXdlyt6yrGAiO8k1YideD1g-NbjUOrSNuDuoYT1bpyszi4o9HVJXgo20a7KZNz9cLUsVRDyktwKM4K7Sr-p96DdO9GbzojPmvZqQ-ct_UbhS3IJJrszdQ-12rAOgNt-XK6Q1rs4GA==&uniplatform=NZKPT&language=CHS

