行业标准
论文分享

【会员论文】湖南大学卢继武教授团队:高性能ZrO₂/β-Ga₂O₃ (001) 金属-绝缘体-半导体电容器

日期:2025-07-31阅读:51

        由湖南大学的研究团队在学术期刊 IEEE Transactions on Electron Devices 发布了一篇名为 High-Performance ZrO2/β-Ga2O3 (001) Metal–Insulator–Semiconductor Capacitors(高性能 ZrO2/β-Ga2O3 (001) 金属-绝缘体-半导体电容器)的文章。

 

项目支持

        本研究部分由湖南省自然科学基金(项目编号:2023JJ30146)资助和长沙市杰出青年科技人才培养计划(项目编号:kq2301006)资助。

 

背   景

        β-氧化镓(β-Ga2O3)因其超宽禁带和高击穿场强等优势,是制造下一代高功率器件的极具前景的材料。对于 β-Ga2O基金属-绝缘体-半导体场效应晶体管(MISFETs)而言,高质量的栅极介质层/Ga2O界面至关重要。理想的界面应具有较大的导带带阶(ΔEC > 1 eV)以抑制栅极漏电流,以及尽可能低的界面陷阱电荷密度(Dit)以避免阈值电压不稳定和电子迁移率下降等问题。 尽管氧化铝(Al2O3)是目前常用的栅介质,但其与 Ga2O的界面热稳定性存在问题。而其他介质如 HfO2 则在 Ga2O上表现出较大的频率色散或较差的界面质量。因此,开发一种与 (001) 取向 β-Ga2O3 能形成高质量界面的新型高 k 介质材料势在必行。氧化锆(ZrO2)因其高介电常数和宽带隙而成为一个有吸引力的候选者。 

 

主要内容

        在本研究中,研究团队利用原子层沉积的 ZrO2/β-Ga2O3(001) 异质结制备了高性能金属-绝缘体-半导体(MIS)电容器。研究了 ZrO2/β-Ga2O3 异质结的能带对齐以及 ZrO2/β-Ga2O3 MIS 电容器的电学性能。通过 X 射线光电子能谱(XPS)技术测定的 ZrO2/β-Ga2O3 异质结的价带偏移(ΔEV)和导带偏移(ΔEC)分别为−0.42 eV和1.42 eV。其能带对齐结构呈现II型(阶梯能隙)结构。对 ZrO2/β-Ga2O3 金属-绝缘体-半导体(MIS)电容器的栅极漏电流及频率依赖性电容-电压(C–V)特性进行了研究。ZrO2/β-Ga2O3 MIS电容器表现出较低的栅极漏电流。采用 Poole-Frenkel(PF)导电模型阐明栅极漏电流机制。基于频率依赖性 C–V 特性,未观察到显著的频率色散。ZrO2 薄膜中的固定电荷和陷阱电荷密度分别计算为 7.9×1012 和 1.27×1012 cm−2。在 β-Ga2O3 导带下方 0.6 eV 的能量下,界面困住电荷密度被提取为 4.1×1010 cm−2⋅eV−1,这是迄今为止在介质/β-Ga2O3 (001)界面中报告的最低值。这些结果表明在 β-Ga2O3 上形成了高质量的 ZrO2 薄膜,使其成为 β-Ga2O3 功率器件中栅极介质的潜在候选材料。

 

总   结

        研究团队成功制备了高性能的 ZrO2/β-Ga2O3 (001)金属-绝缘体-半导体(MIS)电容器。通过 XPS 测量确定了 ZrO2 与 β-Ga2O3 (001)之间的能带对齐。ZrO2/β-Ga2O3 (001)异质结的电位差(EV)和电位差(EC)分别确定为 −0.42 eV 和 1.40 eV。ZrO2/β-Ga2O3(001)异质结的能带对齐结构呈现 II 型(错位能隙)结构。尽管 ZrO2 与 β-Ga2O3 之间的 EV 存在微小差异,但超过 1 eV 的 EC 为电子从 β-Ga2O3 向 ZrO2 的传输提供了较大势垒。ZrO2/β-Ga2O3 金属-绝缘体-半导体(MIS)电容器展现出较低的 J 值。为进一步探究 MIS电容器的漏电流机制,在排除其他模型后采用了 PF 模型。ZrO2 的 εr 值确定为 20.0,与先前报道的值一致。对 ZrO2/β-Ga2O3(001)MIS 电容器的电学性能 C–V 曲线分析,得到了 Qf 和 Nbt 的提取值分别为 7.9 × 1012 和 1.27 × 1012 cm−2。ZrO2/β-Ga2O3 MIS 电容器在 β-Ga2O3 (001) 表面电位 (EC) 下 0.6 eV 的能量下,最小 Dit 值被提取为 4.1 × 1010 cm−2·eV−1,据了解,这是介质/β-Ga2O3 (001) 界面报告的最低值。这些发现表明,通过原子层沉积(ALD)制备的高介电常数 ZrO2 具有作为高性能 β-Ga2O3(001)金属-绝缘体-半导体场效应晶体管(MISFET)栅极绝缘层的潜力。

图1. 用于确定ZrO2/β-Ga2O3异质结的ΔEC的XPS光谱,分别使用(a)β-Ga2O外延片的 Ga 3d5/2 峰和(b)VBM 光谱,(c)(40 nm)ZrO2/β-Ga2O3 异质结的 Zr 3d5/2 峰和(d)VBM 光谱,以及(e)(4 nm)ZrO2/β-Ga2O3 异质结的 Ga 3d5/2 峰和(f)Zr 3d5/2 峰。

图2. (a) 和 (b) 分别显示了 β-Ga2O外延片以及(40 nm) ZrO2/β-Ga2O3 的 O 1s 能量损失光谱,(c) 则显示了 ZrO2/β-Ga2O3 (001) 异质结的能带图。

 

DOI:

doi.org/10.1109/TED.2025.3549382