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【器件论文】用于增强击穿电压的 RESURF Ga₂O₃-on-SiC 场效应晶体管
日期:2025-07-29阅读:60
由南方科技大学的研究团队在学术期刊 IEEE Journal of the Electron Devices Society 发布了一篇名为 RESURF Ga2O3-on-SiC Field Effect Transistors for Enhanced Breakdown Voltage(用于增强击穿电压的 RESURF Ga2O3-on-SiC 场效应晶体管)的文章。
摘要
异质衬底作为改善 Ga2O3 器件散热性能的方法已得到广泛研究。在本模拟工作中,提出了一种新型 p 型异质衬底的作用,将其作为 Ga2O3 横向场效应晶体管(FET)中减小表面电场(RESURF)结构的组成部分。RESURF 结构可消除电场拥挤并有助于提高击穿电压。以 SiC 为例,通过 TCAD 建模系统性研究了 p 型区域掺杂浓度和尺寸的设计策略。同时,模拟中模拟了实际器件中可能存在的界面电荷和 Al2O3 中间层。此外,通过对 p-SiC 耗尽区充电/放电时间的模拟,验证了 RESURF 结构在高频开关操作中的可行性。本研究表明,利用散热异质衬底的电学特性,可在 Ga2O3 FET 中实现均匀的电场分布,具有巨大潜力。
原文链接:
https://doi.org/10.1109/JEDS.2025.3584977