
论文分享
【外延论文】通过提高晶体质量增强 β-Ga₂O₃ 薄膜的光电突触可塑性
日期:2025-04-21阅读:28
由大连理工大学的研究团队在学术期刊Journal of Alloys and Compounds发布了一篇名为Enhancing the photoelectric synaptic plasticity of β-Ga2O3 films via improving crystalline quality(通过提高晶体质量增强 β-Ga2O3 薄膜的光电突触可塑性)的文章。
摘要
日盲紫外(SBUV)光电仿生突触具有抗干扰能力强、高速传输以及存算一体化等优势,被认为有助于解决冯·诺依曼结构计算机所面临的严峻挑战。不同于传统光电探测器(PD),光电仿生突触需要具备强突触可塑性,即在光学刺激后能维持激发状态较长时间。传统观点认为,Ga2O3 的光电突触可塑性主要归因于材料中的缺陷,通常认为高晶体质量对这种功能性不利。然而,在该研究中,研究团队通过提高 β-Ga2O3 薄膜的晶体质量,显著增强了器件的突触可塑性,使其恢复时间从 0.22 s 延长至 40 s 以上。此外,该突触器件展现出多重功能,包括多级存储、短时记忆(STM)和长时记忆(LTM)。同时,该器件在电压(1-10 V)范围内表现出优异的稳定性,并能在高温(630 K)条件下正常工作。结合薄膜特性分析,研究人员认为这些高质量 β-Ga2O3 薄膜所表现出的突触可塑性来源于其固有的间接带隙特性。
原文链接:
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2025.179771